제작 소개
판상 소성 알루미나 연마분은 고품질 산업용 알루미나 분말을 원료로 특수 생산 공정을 거쳐 제조됩니다. 생산된 알루미나 연마분은 육각형의 평평한 판 모양 결정 구조를 가지고 있어 판상 알루미나 또는 판상 알루미나라고 불립니다.
판상 알루미나는 알루미나 순도가 99% 이상으로 내열성, 내산성, 내알칼리성, 고경도의 특성을 가지고 있습니다. 기존의 구형 연마 입자와 달리, 판상 알루미나는 바닥면이 평평하여 연삭 시 입자가 공작물 표면에 밀착되어 슬라이딩 연삭 효과를 발휘하여 입자의 날카로운 모서리가 공작물 표면에 긁힘을 발생시키는 것을 방지합니다. 반면, 판상 알루미나는 연삭 시 연삭 압력이 입자 표면에 고르게 분산되어 입자가 쉽게 파손되지 않고 내마모성이 향상되어 연삭 효율과 표면 조도가 향상됩니다.
반도체 실리콘 웨이퍼와 같은 반도체 소재의 경우, 판상 산화 알루미늄을 적용하면 연삭 시간을 단축하고 연삭 효율을 크게 향상시키며, 연삭기 손실을 줄이고, 인건비와 연삭 비용을 절감하며, 연삭 통과율을 높일 수 있습니다. 품질은 해외 유명 브랜드에 필적합니다.
그림관 유리구 연삭 작업 효율이 3~5배 증가합니다.
합격품 비율이 10-15% 증가하고, 반도체 웨이퍼의 합격품 비율이 99% 이상에 도달합니다.
일반 알루미나 연마분말보다 분쇄소모량이 40~40% 적습니다.
화학 성분
화학적인 | 보증 가치 | 일반적인 값 |
알루미나이드 | ≥99.0% | 99.36% |
이산화규소 | 0.2% 미만 | 0.017% |
철2산화물(Fe2O3) | 0.1% 미만 | 0.03% |
나2O | <0.6% | 0.35% |
물리적 특성
재료 | α-Al2O3 |
색상 | 하얀색 |
비중 | ≥3.9g/cm3 |
모스 경도 | 9.0 |
사용 가능한 크기
유형 | D3(음) | D50(1개) | D94(주변) |
HXTA45 | 50.5-56.2 | 33-38.5 | 20.7-24.5 |
HXTA40 | 39-44.6 | 27.7-31.7 | 18-20 |
HXTA35 | 35.4-39.8 | 23.8-27.2 | 15-17 |
HXTA30 | 28.1-32.3 | 19.2-22.3 | 13.4-15.6 |
HXTA25 | 24.4-28.2 | 16.1-18.7 | 9.6-11.2 |
HXTA20 | 20.9-24.1 | 13.1-15.3 | 8.2-9.8 |
HXTA15 | 14.8-17.2 | 9.4-11 | 5.8-6.8 |
HXTA12 | 11.8-13.8 | 7.6-8.8 | 4.5-5.3 |
HXTA09 | 8.9-10.5 | 5.9-6.9 | 3.3-3.9 |
HXTA05 | 6.6-7.8 | 4.3-5.1 | 2.55-3.05 |
HXTA03 | 4.8-5.6 | 2.8-3.4 | 1.5-2.1 |
제품 응용 프로그램
1) 전자산업 : 반도체 단결정 실리콘 웨이퍼, 석영 수정, 화합물 반도체(결정갈륨, 인산염 나노)의 연삭 및 연마.
2) 유리산업 : 수정, 석영유리, 키네스코프 유리쉘 스크린, 광학유리, 액정디스플레이(LCD) 유리기판, 석영수정의 분쇄 및 가공.
3) 코팅 산업: 플라즈마 분무를 위한 특수 코팅 및 필러.
4) 금속 및 세라믹 가공 산업: 정밀 세라믹 소재, 소결 세라믹 원료, 고급 고온 코팅 등
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